Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

簡(jiǎn)要描述：Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級(jí)紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-11-08
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產(chǎn)品介紹

品牌	Edmund Optics	價(jià)格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

納米級(jí)紋理凹槽表面

可變凹槽周期和凹槽深度

納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇

通用規(guī)格

涂層:

Uncoated

構(gòu)造 :

RIE Grating

基底:

Single Crystal Silicon

表面質(zhì)量:

60-40 (within CA)

厚度 (mm):

0.68 ±0.05

型號(hào)

產(chǎn)品編碼	Period (nm)	尺寸 (mm)
16-855	855 ±42.75	12.50 x 12.50
16-856	855 ±42.75	25.00 x 25.00
16-857	139 ±6.95	12.50 x 12.50
16-858	139 ±6.95	25.00 x 25.00

詳細(xì)資料

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級(jí)紋理表面組成。通過反應(yīng)離子蝕刻，具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面，類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格，以及更復(fù)雜的圖案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。

請(qǐng)注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.

技術(shù)數(shù)據(jù)